El pintor y promotor del arte dominicano Oscar Abreu, residente en Nueva York inicia sus actividades de 2014 con un novedoso concepto que une el mundo de la moda al de las artes plásticas, con la participación de varios diseñadores y una exhibición colectiva.

Esta nueva propuesta cultural se titula “Ritmo, Color y Estilo” y contará de un desfile de moda en medio de la exhibición de cuadros de artistas plásticos como Fernando Ureña Rib, Sócrates Márquez, John Vanmeans, Luigi Jiménez, Dionisio Blanco, Jesús Desangles, Juan Andújar, Pedro Gallardo, Melchor Terrero, E. Lee White, Aram Musset, Renato Encarnación y Karima Abreu.

Anunció además que aprovechará la oportunidad para otorgar un reconocimiento a personalidades como el doctor Ramón Tallaj, el doctor Eliezer Guzmán, el congresista Charles Rangel, el empresario artístistico Félix Cabrera, el dirigente comunitario Moisés Pérez, La comunicadora Patsi Arias y el “rey de la radio” Polito Vega, por su grandes aportes sociales y profesionales al desarrollo de la comunidad hispana en Estados Unidos.

El evento está programado para este jueves, a partir de las seis de la tarde, en los salones de eventos especiales de Harlem Work Space, ubicado en el 2350 de la Quinta Avenida (esquina 142) Harlem.

Evento. De acuerdo con Abreu, “el público disfrutará de una noche estelar con la presentación de las últimas tendencias en el mundo de la moda donde las encantadoras modelos estarán exhibiendo el trabajo de Milagros Batista, Ona Otite y Epperson”. Para el evento han sido convocadas personalidades de la vida política, social y cultural de la comunidad hispana de Nueva York y otras ciudades.