La malla ampliada de Vuitton

Nunca una jornada de la semana de la moda es unánime, y para los que buscan un respiro a la abstracción geométrica, el entramado irregular de la malla textil fue el “leit motiv” de la colección para Louis Vuitton del británico Kim Jones, que al pasar rindió un homenaje a su compatriota Christopher Nemeth (1959-2010).

 Issey Miyake y Mackintosh

Para Issey Miyake, Yusuke Takahashi se inspiró de la obra de uno de los padres del “art nouveau”, el arquitecto y diseñador escocés Charles Rennie Mackintosh (1868-1928), a la hora de vestir a “un dandy con elegancia”.

Líneas rectas y cuadriculadas que recuerdan los diseños de Mackintosh estructuran los modelos de la marca japonesa, que retoma sus tonos favoritos: negro, azul, y algún toque de rosado.

Para los días más fríos, Takahashi propone capas, ponchos y abrigos de espesa lana con motivos de tartán escocés.

“Quise crear un estilo más elegante”, comentó el creador japonés tras el desfile.

 Rayas rebeldes

El norteamericano Rick Owens recurrió al motivo conductor de cuatro líneas rectas paralelas que recorren y se quiebran como un rayo en los modelos de una colección dominada por negros y beiges.

Para el próximo invierno, el rebelde de las pasarelas propone gabanes cruzados con solapa sobredimensionada o piel vuelta.

Ligeramente más recatada que de costumbre, la tribu urbana de Rick Owens incluye como siempre muchos modelos de cuero e incursiona esta vez en algunos abrigos acolchados.